Бывшие инженеры ASML тайно разработали в Китае работающий прототип EUV-литографа
В Китае завершено создание прототипа передовой установки для литографии в жестком ультрафиолете. Над проектом трудилась группа бывших инженеров нидерландской компании ASML, которые применили методы обратного инжиниринга к существующему оборудованию. На данный момент установка запущена и успешно генерирует необходимое излучение, однако производство полностью функциональных чипов на ней пока не ведется.
Появление этого устройства ставит под сомнение весенние заявления руководства ASML. В апреле генеральный директор компании утверждал, что Китаю потребуются много-много лет для освоения технологии EUV. Текущий прогресс показывает, что страна находится гораздо ближе к технологическому суверенитету, чем считали западные аналитики. Эксперты полагают, что использование компонентов от старых установок, купленных на вторичном рынке, позволит Китаю наладить выпуск работающих чипов уже к 2028 году.
Инициатива реализовывалась в рамках так называемого Китайского Манхэттенского проекта, который длился шесть лет в обстановке полной секретности. Источники утверждают, что главная цель Пекина заключается в том, чтобы производить передовые микросхемы на машинах, полностью созданных внутри страны. Это позволит исключить Соединенные Штаты из производственных и логистических цепочек.
Для достижения цели Китай развернул масштабную кампанию по найму персонала. В команду вошли ветераны отрасли и инженеры китайского происхождения, недавно уволившиеся или вышедшие на пенсию из ASML. Процесс трудоустройства сопровождался строгими мерами конспирации, вплоть до выдачи поддельных удостоверений личности. За переход специалистам предлагали высокие бонусы и жилье. Сейчас над изучением и копированием технологий работает около сотни человек под постоянным
