В 2027 году в РФ появится отечественный литограф для выпуска чипов 130 нм
Вице-премьер РФ Денис Мантуров рассказал о планах по развитию отечественной микроэлектроники
Россия планирует освоить выпуск литографического оборудования для производства чипов по техпроцессу 130 нм уже в следующем году, сообщил вице-премьер РФ Денис Мантуров в интервью газете «Коммерсантъ».
Вице-премьер отметил, что в 2025 году уже был создан отечественный литограф на 350 нм. Следующим этапом должно стать появление российской литографической установки на 130 нм. Речь идет о полностью независимом оборудовании собственной разработки.
По словам Манутрова, Россия делает ставку на собственные технологии для микроэлектронного машиностроения, поскольку поставки литографов, установок травления пластин и другого критически важного оборудования в обозримом будущем не ожидаются. Вице-премьер также добавил, что переход к производству чипов по более тонким техпроцессам потребует времени.
Для справки: техпроцесс 130 нм использовался в массовых процессорах Intel и AMD начала 2000-х годов, включая Pentium 4 (Northwood) и первые Athlon 64. Однако прямое сравнение не совсем уместно, так как такие нормы производства до сих пор применяются в промышленной электронике, телекоммуникационном оборудовании, системах автоматизации и других устройствах, где на первый план выходят надежность и доступность производства.
